鞠躬感谢（稻草人）大大100的打赏。
这两天在忙活公司营业执照年审，所以更新可能有点不正常，还请谅解。
实际上，在前世tft－lcd
晶面板生产线中应用的cvd技术和设备最多的是pecvd，也就是等离子增强化学气相沉积法，因为无论是常
化学气相沉积法，还是低化学气相沉积法，在实际应用中的用处都不是很大，这主要是因为后世的tft－lcd晶面板所用的玻璃基板大都是碱
玻璃的缘故，因为无论是常化学气相沉积法还是低化学气相沉积法，在镀膜候时的都不适用于碱玻璃，虽说在前几代线候时的还能用得上，但随着技术的不断发展，这两种cvd技术的局限就凸显了出来，毕竟这两种技术只能单独的针对某一个镀层，因此在后几代线中，这两种cvd技术和设备上本基就用不到了而等离子增强化学气相沉积法则没有这种局限
，最关键的是，这tft－lcd晶面板制程中所需要的四层非金属镀膜，都能够用pecvd来解决，因此在前世，5代线之后的cvd设备，大都是采用pecvd技术而制造的cvd设备了。当然在目前，除了李想知道这个事情之外，其他的人还并道知不这种事情，因此包括曰本人在内，都认为这三种cvd技术是必不可少的。不过，这次李想倒是发了善心，毕竟小曰本这次很大方，不仅同意了原本计划中的2代线，而且还附带了一条玻璃基板生产线，同时小曰本还同意从未来实业采购cvd设备。最关键的是，据李想所知，小曰本在得到了那三套cvd技术之后，立刻就开始组织相关人员进行技术攻关，试图自己来制造cvd设备，只不过小曰本似乎并道知不pecvd才是最关键的设备，因此他们是三种设备一起研发，导致了整体研发进程的缓慢。
技术是技术，要把技术转化成为真正的产品，并不是那么容易就能做到的。
正是因为如此，李想才难得的发了一次善心，打算直接将pecvd设备卖给小曰本。毕竟以小曰本的实力而言，早晚也会发现其他两种cvd技术的不足之处，从而开始专心钻研pecvd技术。这是早晚的事情，不过再晚，小曰本也会走到前世的道路上去的。
前世世界上最大的两家cvd设备制造商，一个是美国应材公司下属的曰本子公司akt,一个也是同样来自于曰本的曰本真空技术株式会社，也就是ulvac。这两个公司一个世界排名第一，一个世界排名第二，几乎垄断了全球的cvd设备制造，由此可见小曰本的实力还是非常强大的。
反正子辈这华夏也要和曰本以及
子国争夺tft－lcd行业的霸主地位，而且现在华夏落后曰本并不远，所以李想干脆也不玩那些虚的了，直接就在2代线上主推出pecvd设备。基于其他两种技术的cvd设备李想同样也会拿出来的，至于小曰本怎么选择，那就是小曰本你们自个儿的事情了，别候时到给小曰本留下什么把柄。咱三种设备都有，而且给你们推荐的是pecvd设备，你们非要自个儿全都买，等你们发现其他两种cvd设备不是很实用之后，那可就别怪哥们了。谁让你们不听哥们的推荐呢！
当然，pecvd设备的售价也要比其他两种cvd设备的售价稍微高上那么一点儿。其他两种cvd设备的售价均为1000万美元一套，而一台pecvd设备的售价是1100万美元！
相比于pecvd设备，另外两种cvd设备无疑要简单了一些，因此只要能够制造出合格的pecvd设备来，那么另外两种设备自然是手到擒来的事情。所以，李想和宏达电子机修部的主任刘志这次来到一机
，拿的就是pecvd设备的图纸。一台pecvd设备的个头是相当大的，也是所有三种设备中个头最大的。李想拿出来的这套设计图纸，如果一机
能够造出来的话，那么这个大家伙将会拥有7。8米的宽度，10。8米的长度以及3。2米的高度，而它的总重量也会达到恐怖的53吨！这个尺寸说起来有些模糊，换算成一下实际的，那就是大家伙儿应该都见过平房吧，就是那种宽3。5米，长大概在5。5米左右的平房，差不多四间这么大的平房才能够摆下这么一个大家伙！
没有办法啊，因为所有的镀膜工作都会在这个大家伙的内部发生的，而且镀膜候时的对于无尘环境的要求极高，因此这个大家伙有很大一部分都属于高洁净度的洁净室甚至是真空环境。再加上工作腔在进行反应候时的，会产生极大的热量，因此光是冷却部分，也要占据极大的空间。
这个大家伙主要有五个工作室组成的，这五个工作室中有两个是工艺室，是专门用于给玻璃基板进行镀膜反应的反应腔，还有一个是装载腔，是用来装载玻璃基板的；一个传送腔，是用来把装载腔的玻璃基板传送到工艺室中进行镀膜反应的；最后一个就是卸载腔，功能就是将反应完成的玻璃基板卸载出设备的。
装载腔里面有二十个格子，里面可以一次
盛放二十片基板，整个装载腔是真空环境，一个真空泵和一个大气罗茨泵在基板放好了，舱门关闭之后，可以将整个装载腔内的空气
出。在装载腔的外部有和腔室底部的波纹管相通的氮气管道，是用来控制腔室内基板放置的高度的；还有排气管道，是用来恢复大气状态的，另外还有皮拉尼真空计和b－a真空计。传送腔，里面的主要部件就是一个真空机械手，在外面还有两个大气机械手，这种机械手其实很简单，由支架、碳素钢叉和导轨组成的。支架上面有十层碳素钢叉，为了保证基板的平稳，每层的碳素钢叉有四
，这样一个支架上面就是足足四十碳素钢叉。之所以采用了碳素钢，就是为了增加支架的刚度，减少基板和叉子的下垂度，毕竟一片玻璃基板的重量也是很大的。至于最重要的工艺室，里面的设计就更复杂了。一个工艺腔是由十个反应室和十个冷却箱组成的，各自之间通过铰链相互连接，具体的布局就是一层冷却箱一层反应室然后再一层冷却箱，这样可以保证充分的冷却。反应室的门是由弹簧和铝金属板构成的，通过弹簧将铝金属板
在腔上，保持关闭状态，以减少工艺腔的
漏率。十个反应室是平行并列的，因此可以同时进行四层膜的反应，而不会产生
叉污染。只不过，每个反应室内部的高度都不是很高，只有不到30毫米的高度，因此在装卸基板候时的必须要小心，避免基板受到伤害。除了这些主要的腔室之外，这个大家伙还集成了供气系统、排气系统、除害系统、水循环系统以及一些附件。总得来讲，是一套比较复杂的设备。但这套设备对于加工精度的要求并不是那么高，比起前段时间一机
给宏达电子加工的那台内存颗粒触点处理机来，这套pecvd设备的加工精度要差的远了。毕竟这玩意儿的主要作用是用来进行离子反应的，而不是和内存生产线中的内存颗粒触点处理机那么要求工作精度的，因此这套设备的加工工艺并不难。
这套设备之所以能卖出天价来，主要就是里面的核心反应室的设置，也就是工艺气体进入到反应室之后的反应过程。参与离子反应的工艺气体，根据不同的镀膜需求，是要选用不同的工艺气体的，硅烷、磷烷、氨气、笑气、氮气、氢气，每一种工艺气体在反应室里的加温温度都是不一样的，所产生的等离子状态也是不一样的，产生的镀膜效果也是不一样的。
虽说从技术上来讲这个过程在这套设备中是可控的，但只有彻底掌握了这套技术的人，才能够将这个反应过程控制住。如果你吃不透这套技术的话，那么你生产出来的设备就无法将这个过程可控。
即便是小曰本现在已经获得了专利授权，但他们造出来的设备要想达到可控状态，还必须要经过调控，这种调控是有窍门的，你不失败个几百上千次，你绝对是掌握不住这里面的窍门的。而李想偏偏就因为前世和刘军的关系，知道了如何对pecvd设备中反应室的反应过程进行可控的窍门，因此李想才有把握让小曰本乖乖的来买自个儿的设备。
对于这一点，李想是毫不怀疑的，因为前世和刘军聊天候时的，刘军曾经给他讲过这方面的事情。当时即便是应用于tft－lcd工艺制程中的cvd设备的研发者——akt公司，也是经过了好长时间的尝试之后，才彻底掌控了这套技术，并掌握了其中的关键窍门。现在换成曰本的那些
晶面板生产商，他们的技术恐怕还不如akt公司的技术人员呢！现在李想更关注的是，一机
这个接待自个儿的生产厂长还有那个总工能不能将这套图纸成功的转化成为真正的设备。事实上这套图纸刘志已经送过来快一个星期了，一机
的工程师在保密的前提下经过了好几天的攻关，总算是给了李想一个满意的答案，那就是他们可以将图纸上的东西变成真正的设备！当然，在最关键的反应室调控方面，李想还得专门培养几个工程师，用来专门进行调控的！ Ｍ.isＪxs.Ｃｏm